Visokokvalitetni silikonski blok

Proces taljenja metalaSilicijiz minerala silicijevog oksida je proces bez troske. Kemijsko taljenje silicija je strogo u odabiru silicija. Ne zahtijeva samo nizak sadržaj nečistoća, već također zahtijeva visoku mehaničku čvrstoću, dovoljnu toplinsku stabilnost i odgovarajući sastav veličine čestica. Najbolje je koristiti silicij za kemijsko taljenje silicija. Prirodni silicij postoji ili kao samostalni kvarcni mineral, ili kao silicij, stijena sastavljena gotovo u potpunosti od silicija, ili kao pješčenjak u obliku silicija. Nečistoće i adhezije u mineralima silicijevog oksida koji se koriste u proizvodnji kemijskog silicija potpuno su ili djelomično reducirane tijekom procesa taljenja, a neke ulaze u proizvodni silicij u obliku spojeva ili stvaraju trosku. To ne samo da povećava potrošnju energije i smanjuje kvalitetu proizvoda, već također uzrokuje poteškoće u procesu taljenja. Stoga postoje strogi zahtjevi za kemijski sastav minerala koji sadrže silicijev oksid koji se koriste u kemijskom taljenju silicija. Potrebno je da SiO2 bude veći od 99%, Fe2O3 manji od 0.15%, Al2O3 nije veći od {{10}}.2%, CaO nije veći od {{ 14}}.1%, a zbroj nečistoća nije veći od 0.6%. Upotrijebljeni silicij mora se isprati vodom, a površina mora biti čista prije taljenja.