Materijal na visokoj razini Silikonski metal 411

Kako bi se smanjila poteškoća postupka praćenjaSilikonski metal 411Kisenje, silicijski metal pročišćen je na temelju zrele tehnologije za kiselo ukidanje sobne temperature i nove tehnologije oksidacije mokrog kisika. Glavna funkcija ukiseljenja je uklanjanje većine metalnih nečistoća izloženih na površini čestica silicijalnih metala; Nakon oksidacije vlažnog kisika, boron s malim koeficijentom koagulacije (koagulacijski koeficijent u silicijskim i silicijskim sustavima) u česticama difundira se u silicijumu na visokoj temperaturi, a zatim korodira kako bi se uklonio sloj oksida i nečistoće u njemu. Ova metoda ima očigledan učinak pročišćavanja na nečistoće od borona, a sadržaj nečistoća od borova nizak je čak 4 × 10-6.

1.Kako bi se poboljšala sobna temperatura krhkost ternarskogSilikonski metal 411Spoj FE9CR9SI2, čvrsta otopina na bazi željeza pooštrena je FC9CR9SI2 ternarni metalni silicida legura (skraćena legura AS /Fe9CRGSI2) pripravljena laserskom talinom, a njegova je struktura sačinjena od Fe9CR9SI2 primarnog dendrita i solidnog solidnog solidata na temelju Irona legura se povećala s povećanjem integralnog broja primarnog Fe9CR9SI2 dendriti. U usporedbi s jednofaznom legurom FE9CR9SI2, žilavost legure Fe9CR9SI2 značajno se poboljšava pojačavanjem čvrste otopine na bazi željeza. U uvjetima suhog kliznog trenja, legura /Fe9CR9Si2 ima nizak koeficijent trenja, koji se smanjuje s povećanjem volumne udio Fe9CRGSI2.

Popularni tagovi: Materijal na visokoj razini Silikonski metal 411, Kina visoka razina materijala Silikonski metal 411 Proizvođači, dobavljači, tvornica